Tribology In Chemical-Mechanical Planarization / Nejlevnější knihy
Tribology In Chemical-Mechanical Planarization

Kód: 24622007

Tribology In Chemical-Mechanical Planarization

Autor Hong Liang, David Craven

The role that friction and contact play in the processes of wear and planarization on material surfaces is central to the understanding of Chemical-Mechanical planarization (CMP) technology, particularly when applied to nanosurfac ... celý popis

2340


Skladem u dodavatele
Odesíláme za 9-12 dnů
Přidat mezi přání

Mohlo by se vám také líbit

Darujte tuto knihu ještě dnes
  1. Objednejte knihu a zvolte Zaslat jako dárek.
  2. Obratem obdržíte darovací poukaz na knihu, který můžete ihned předat obdarovanému.
  3. Knihu zašleme na adresu obdarovaného, o nic se nestaráte.

Více informací

Více informací o knize Tribology In Chemical-Mechanical Planarization

Nákupem získáte 234 bodů

Anotace knihy

The role that friction and contact play in the processes of wear and planarization on material surfaces is central to the understanding of Chemical-Mechanical planarization (CMP) technology, particularly when applied to nanosurfaces. Tribology in Chemical-

Parametry knihy

Zařazení knihy Knihy v angličtině Technology, engineering, agriculture Mechanical engineering & materials Materials science

2340



Osobní odběr Praha, Brno a 12903 dalších

Copyright ©2008-24 nejlevnejsi-knihy.cz Všechna práva vyhrazenaSoukromíCookies


Můj účet: Přihlásit se
Všechny knihy světa na jednom místě. Navíc za skvělé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Vyzvednutí v Zásilkovně
zdarma nad 1 499 Kč.

Nacházíte se: